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专利名称：一种高稳定性聚合物包覆量子点荧光粉材料及其制
备方法
专利类型：发明专利发明人：魏居富,周超,李静申请号：CN2016110272.3申请日：20161128公开号：CN106753328A公开日：20170531
摘要：本发明涉及一种高稳定性聚合物包覆量子点荧光粉材料及其制备方法，制备方法为：先制备量子点溶液，再对制备的量子点溶液进行提纯，最后将提纯后的量子点溶液与聚合物制成聚合物包覆量子点荧光粉材料；通过本发明提供的高稳定性聚合物包覆量子点荧光粉材料及其制备方法，所制备的高稳定性聚合物包覆量子点荧光粉材料具有产率高，稳定性高，耐温耐湿性好，安全环保，不易团聚、使用寿命长，简单实用的优点，可操作性强，适合大批量制备。
申请人：厦门世纳芯科技有限公司
地址：361000 福建省厦门市海沧区东孚大道2879号6号楼5层504单元
国籍：CN
代理机构：北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：李强
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