PVD处理装置以及PVD处理方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201480016804.9 （22）申请日 2014.03.03 （71）申请人 株式会社神户制钢所

地址 日本兵库县神户市

（10）申请公布号 CN105051247A

（43）申请公布日 2015.11.11

（72）发明人 藤井博文

（74）专利代理机构 中国专利代理()有限公司

代理人 李婷

（51）Int.CI

C23C14/50;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

PVD处理装置以及PVD处理方法

（57）摘要

本发明提供一种PVD处理装置(1)以及方

法，通过基材的自转以及公转，能够在基材的外周面形成具有周向上的均匀性优良的膜厚的复合皮膜。PVD处理装置(1)具备：真空腔室；使多个基材(W)在真空腔室内绕公转轴(7)公转的公转台；使各基材(W)在公转台上绕平行于公转轴(7)的自转轴(8)自转的自转台(4)；在公转台的径向外侧被设置在互相在周向上分离的位置的多种靶

材(5)；在基材(W)通过从各靶材(5)的向包络各自转台(4)的圆弧引出的两个切线(L1、L2)之间的期间，使自转台(4)以180°以上的角度自转的台旋转机构(6)。

法律状态

法律状态公告日

2015-11-11 2015-11-11 2015-12-09 2015-12-09 2018-05-18

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

PVD处理装置以及PVD处理方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看

说明书

PVD处理装置以及PVD处理方法的说明书内容是....请下载后查看