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专利名称：一种H型喷头的MOCVD匀气上下盘组件专利类型：发明专利
发明人：梁勇,胡国新,曾一平,王军喜,段瑞飞,李辉申请号：CN201610597251.1申请日：20160920公开号：CN106086818A公开日：20161109
摘要：本发明公开了提供了一种气盘，和使用该气盘的MOCVD设备，包括：第一进气口、第二进气口第三进气口；第一腔室、第二腔室以及与第三腔室；第一种气体喷头区域、第二种气体喷头区域、第三种气体喷头区域；所述第一种气体喷头与第一腔室连通；所述第二种气体喷头与第二腔室连通；所述第三种气体喷头区域与第三腔室连通；所述第一种气体喷头区域设置在所述气盘外表面靠外的部分，所述第二种气体喷头区域设置在所述气盘外表面居中的部分，所述第三气体喷头区域设置在所述第一种气体喷头区域和第二种气体喷头区域之间。通过采用上述技术方案，合理利用了所述气盘底部的空间，减小预反应，避免了在MOCVD托盘上出现不均匀生长的情况。
申请人：北京中科优唯科技有限公司
地址：100176 北京市大兴区经济技术开发区经海五路58号院5号楼7层708室
国籍：CN
代理机构：北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：胡剑辉
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