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场效应晶体管结构以及相关的射频开关[发明专利]

来源:百家汽车网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:场效应晶体管结构以及相关的射频开关专利类型:发明专利发明人:J.C.克兰德尔申请号:CN201280060734.8申请日:20121108公开号:CN103999227A公开日:20140820

摘要:本发明涉及场效应晶体管(FET)结构的装置和方法,其构造为在线性运行区域(Rds-on)中减小单位面积电阻值。诸如绝缘体上硅(SOI)装置的典型的FET装置要求较大的装置尺寸以希望降低Rds-on值。然而,这样的尺寸增加导致不希望的较大的芯片尺寸。所公开的是源极、漏极和对应栅极的各种形状示例,其产生降低的Rds-on值而不需要增加装置尺寸。在某些实施中,这样的FET装置可应用于高功率射频(RF)开关应用中。在某些实施中,多个这样的FET可串联连接以允许在高功率RF开关应用中使用SOI技术同时保持相对小的芯片尺寸。

申请人:天工方案公司

地址:美国马萨诸塞州

国籍:US

代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:邱军

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